Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів
2

Hydrogenated aluminum nitride thin films prepared by r.f. reactive sputtering. Infrared and structural properties

Рік:
1995
Мова:
english
Файл:
PDF, 710 KB
english, 1995
5

New plasma deposition process of amorphous GaxAs1−x in an r.f. capacitively coupled diode system

Рік:
1986
Мова:
english
Файл:
PDF, 328 KB
english, 1986
9

Si nanocrystal-containing SiOx (x 

Рік:
2005
Мова:
english
Файл:
PDF, 362 KB
english, 2005
13

Optical properties and microstructure of gold – fluorocarbon-polymer composite films

Рік:
1985
Мова:
english
Файл:
PDF, 1.09 MB
english, 1985
22

Spirophosphoranes macromoleculaires

Рік:
1979
Файл:
PDF, 504 KB
1979
24

New thio-analogs of phosphoenol pyruvate

Рік:
1990
Мова:
english
Файл:
PDF, 112 KB
english, 1990
25

The photoreduction of cyclohexanones by 2-propanol: a new kinetic model

Рік:
1977
Мова:
english
Файл:
PDF, 809 KB
english, 1977
31

Physicochemical and structural properties of ultra thin films with embedded silicon particles

Рік:
2007
Мова:
english
Файл:
PDF, 613 KB
english, 2007
33

Feasibility of an isolation by local oxidation of silicon without field implant

Рік:
2001
Мова:
english
Файл:
PDF, 145 KB
english, 2001
34

Synthesis of new analogs of phosphoenol pyruvate

Рік:
1990
Мова:
english
Файл:
PDF, 104 KB
english, 1990
35

Structural characteristics of RF-sputtered BaTiO3 thin films

Рік:
2001
Мова:
english
Файл:
PDF, 211 KB
english, 2001
37

Internal r.f. plasma parameters correlated with structure and properties of deposited hydrocarbon films

Рік:
2000
Мова:
english
Файл:
PDF, 397 KB
english, 2000
39

Analysis of the N2O dissociation by r.f. discharges in a plasma reactor

Рік:
1999
Мова:
english
Файл:
PDF, 458 KB
english, 1999
42

Deposition of “Polysiloxane” Thin Films Containing Silver Particles by an RF Asymmetrical Discharge

Рік:
2007
Мова:
english
Файл:
PDF, 288 KB
english, 2007
46

Thermostimulated depolarization currents on a glass surface in ambient gases

Рік:
1983
Мова:
english
Файл:
PDF, 966 KB
english, 1983
49

Influence of the reactor design in the case of silicon nitride PECVD

Рік:
1997
Мова:
english
Файл:
PDF, 1.05 MB
english, 1997